Nano-imprinting
Master Mold, Stamp, Replication
NIL Technology社は、2006年デンマークのコペンハーゲンで設立、ナノインプリントに関する広汎な製品・サービスを提供しています。

カスタム・マスターモールド

・Si、Qz、Ni、Fe製のマイクロ・ナノ構造のマスターを製造
・得意分野は、回折光学要素、メタレンス、AR/MR用マスター
・電子ビームリソ（EBL）、DUVリソ、レーザー直描＋ドライエッチ・堆積工程と組合せ


標準ワーキング・モールドの例：傾斜格子パターン

・100mmφガラスウエハー上の硬質樹脂構造（ウエハー厚1,000um±25um）
・傾斜格子パターン（ウエハー中央部に20X20mm）一方向または双方向の斜角。
・500nm周期、ギャップ325±15nm、線幅175±15nm、格子高400±10nm、傾斜角30±2°


設計からレプリカ製造まで（光学素子の例）

Diffractive Optical Elements

・高精度
・複層構造（最大16段）
・最大200mmウエハー
Meta Optical Elements

・メタ構造（複雑ナノ構造）の平面レンズ
・1Mレンズ・2Mレンズ共に利用可能
Blazed Gratings

・柔軟性と高精度、低光損失
・200 nmサイズまで対応
表面円滑性（RMS <2 nm）
Slanted Gratings

・高い均一性
・トレンチ部の底面平滑性
Microlens Array

・高精度の球面および非球面
・マイクロレンズアレイ（MLA）


製品メーカー
NIL Technology ApS
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